英特尔眼睛一条往返摩尔定律的道路

英特尔自豪地自豪地使电脑更快，更便宜，更小，但近年来，该公司丢失了芯片制造边缘，它必须发生这种情况。

该公司Hasn“T凭借自己的截止日期，以推进芯片技术，并已达成令人尴尬的产品延误。近年来，英特尔没有能够在普通的两年周期上推进芯片制造过程，这是几十年来就位的时间表。

在遇到涉及制作少年筹码的挑战后，英特尔现在每天两年半推进芯片制造过程。它的目前的14纳米制造过程所做的是，预计将在即将到来的10纳米进程中，首席财务官在本周在摩根斯坦利技术，媒体和电信会议的演讲中表示。

但英特尔希望结束即将到来的7纳米进程的半年失效，当时史密斯表示，当希望每两年恢复推进芯片制造时，史密斯说。

“我们希望有两年，但我们”重新“，”史密斯说。“我们”只看了7纳米，因为这是一个可能让我们回到两年的节奏的技术转变的潜在时间。“

英特尔基于其芯片制造进步，即一种名为Moore的法律的观察，这使得晶体管的密度应该每两年加倍，而每个晶体管的成本下降。英特尔的目标是符合摩尔的法律，几十年来服务于公司。

14-NM过程中的制造业问题导致英特尔减缓芯片制造进步到2.5年的时间框架。导致芯片释放计划的产品延迟和批发变化。

一个问题：英特尔通常释放两种芯片架构，其中一个制造过程，但第一次将用14纳米工艺释放三个。英特尔发布了名为Broadwell和Skylake的筹码代码，今年晚些时候将发布芯片代码名为Kaby湖的芯片。

基于10纳米工艺的第一个芯片代码为Cannonlake，将于2017年下半年来。

回到摩尔定律日程安排铰链，称为EUV（极端紫外线），消除了与制造较小芯片相关的一些复杂性。

EUV可以使用7纳米工艺进行行动。该技术使用紫外线使用掩模在硅晶片上传递电路图案。EUV现在可以使用，因为工具不存在。

随着芯片变小，制造过程中错误的可能性也会增加。史密斯表示，在英特尔“S 14-NM工艺中使用的电流技术如多白地震光刻 - 用于英特尔的14-NM工艺 - 不允许英特尔进一步减少芯片尺寸。

瑞士表示，它可能会比预期提前准备好了，所以它们可以在10纳米的过程中实施，但史密斯说，他们可以在10纳米的过程中实施。

英特尔已经失去了竞争对手三星，台积球和GlobalFoundries的制造优势，但转移到10纳米进程应该再次将其放在上面。三星和GlobalFoundries现在正在制作14米的筹码和避风港的计划，以推进芯片制造过程。

对于英特尔来说，跟上摩尔定的法律和两年的制造业进步昂贵。2015年的芯片制造商估计，在2011年的估计1040亿美元上，需要花费2700亿美元超过10年的时间。估计包括晶片，人力和工具等效果的成本。

除了EUV之外，材料的进步可以帮助英特尔生产更快，更节能的芯片。英特尔已经漂浮了使用GaN（氮化镓）将部分更换芯片上的芯片。GaN是一个更好的电力导体，比硅更快地执行，最初可以用于功率调节器和其他部件。